光刻芯片服务——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
什么是光刻板
光刻板是一种由石英为材料制成的,可以用在半导体曝光制程上的母版。 而这种从光刻板母版的图形转换到晶圆上的过程,就像机工作一样。我们可以把光刻机想象成机,把母版的图形印到纸张上的过程,就像光刻机把芯片图形印到晶圆上一样,都需要有母版,这个母版在半导体制造上就是光刻板。 为了制造一款芯片需要几百道工序,光刻板也是不只一张的,在14nm工艺制程上,大约需要60张光刻板,7nm可能需要80张光刻板甚至更多。当然光刻板的品质要求是不同的,对于某些对精度要求很高的工序,相对应的光刻板对精度的要求时高的,比如晶体管相关的光刻板, 而对精度要求不那么高的工艺,比如Pad(打线孔)等要求就低一些,光刻板价格也便宜一些。 先进制程对光刻板精度的要求越来越高,甘肃光刻芯片服务,同时不能有缺陷,所以光刻板制造后的检查(Inspection)也很重要。
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光刻板图案并不是设计图纸的简单再现,而是要根据实际工作经验对图案进行合理修饰才行。不做修饰的光刻板经过光刻机的显影以后,得到的芯片图案会失真非常严重。
打个简单的比方,要想打印一个老虎的图案,必须得用猫的相片作为参照,如果用老虎自己的相片做参照,打印出来的可能就是怪兽了。所以,制作光刻板,不能跟图纸设计的图案完全一样。
必须根据光学衍射的理论,和光刻机实际失真程度的经验进行反向设计,把光刻板图案做一定的修饰,以便终光刻出来的图案足够接近理想效果。这个环节对设计经验的要求非常高,得反复试验才能达到的效果。
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进入21世纪以来,随着摩尔定律的失效大限日益临近,寻找半导体材料替代品的任务变得非常紧迫。在多位选手轮番登场后,有两位脱颖而出,它们就是氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)——并称为第三代半导体材料的双雄。
小编认为相对于Si,SiC的优点很多:有10倍的电场强度,高3倍的热导率,宽3倍禁带宽度,高一倍的饱和漂移速度。
因为这些特点,用SiC制作的器件可以用于的环境条件下。微波及高频和短波长器件是目前已经成熟的应用市场。42GHz频率的SiC MESFET,用在了相控阵雷达、通信广播系统中,用SiC做为衬底的高亮度蓝光LED则是全彩色大面积显示屏的关键器件。
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