光电器件真空镀膜平台 半导体研究所 天河光电器件真空镀膜

光电器件真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，天河光电器件真空镀膜，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

真空镀膜对环境的要求。

加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。

基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

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真空镀膜机的正常工作条件

1、环境温度：10~30℃

2、相对湿度：不大于70%

3、冷却水进水温度：不高于25℃

4、冷却水质：城市自来水或质量相当的水

5、供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；

6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。

7、设备周围环境整洁、空气清洁，光电器件真空镀膜加工厂商，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生i。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，光电器件真空镀膜代工，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。

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由于气体压强与单位体积的分子数成正比， 因此平均自由程与气体的压强亦成正比。在真空淀积薄膜过程中，当淀积距离大于分子的平均自由程时被称为低真空淀积， 而当淀积距离小于分子的平均自由程时被称为高真空淀积。在高真空淀积时，蒸发原子 ( 或分子 ) 与残余气体分子间的碰撞可以忽略不计，因此汽化原子是沿直线飞向基片的，这样保持较大动能到达基片的汽化原子即可以在基片上凝结成较牢固的膜层。在低真空淀积时，由于碰撞的结果会使汽化原子的速度和方向都发生变化，甚至可能在空间生成蒸汽原子集合体—其道理与水蒸汽在大气中生成雾相似。

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