钨金属真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
PVD技术出现于二十世纪七十年代末，真空镀膜机镀膜技术制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。初在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。
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真空镀膜对环境的要求。
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，钨金属真空镀膜外协，达到工件去油、去污和脱水的目的。
基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
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那么磁控溅射真空镀膜机怎样解决不均匀性的问题呢？
首先，要尽量保证磁场的均匀性和方向一致性，形成一个相对均匀的空间磁场。
其次，要尽量保证气压上下的均匀性，真空腔体设计时，要考虑真空泵的安装位置，钨金属真空镀膜公司，和工艺气体进气方式以及腔体内工艺气管的布局。
第三，由于磁场和气压都不可能理想，那么就可以通过气压的不均匀来补偿磁场不均匀，让终薄膜均匀一致。
第四，靶基距也是影响均匀性的重要因素。
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